刻蝕設(shè)備
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![2023年中國(guó)刻蝕設(shè)備行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀：政府推動(dòng)技術(shù)發(fā)展，國(guó)產(chǎn)刻進(jìn)口替代空間廣闊[圖]](http://img.chyxx.com/images/2022/0408/55d853aceb464ffcf6fad7c27bbd7795797b1b5a.png?x-oss-process=style/w320)
2023年中國(guó)刻蝕設(shè)備行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀：政府推動(dòng)技術(shù)發(fā)展，國(guó)產(chǎn)刻進(jìn)口替代空間廣闊[圖]
隨著國(guó)內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，對(duì)刻蝕設(shè)備的需求將繼續(xù)增加，預(yù)計(jì)未來(lái)幾年中國(guó)刻蝕設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模還將繼續(xù)保持增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)。具體而言，2022年我國(guó)刻蝕設(shè)備行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模342.41億元，其中，介質(zhì)刻蝕設(shè)備173.23億元；硅刻蝕設(shè)備156.03億元；金屬刻蝕設(shè)備13.15億元。
智研觀點(diǎn)
2024-02-21
![2022年中國(guó)刻蝕設(shè)備行業(yè)全景速覽：國(guó)產(chǎn)替代前景廣闊[圖]](http://img.chyxx.com/images/2022/0330/6b296592ed87ae76d174b4fbc262ff18a3c189b8.png?x-oss-process=style/w320)
2022年中國(guó)刻蝕設(shè)備行業(yè)全景速覽：國(guó)產(chǎn)替代前景廣闊[圖]
刻蝕是用化學(xué)、物理、化學(xué)物理結(jié)合的方法有選擇的去除（光刻膠）開口下方的材料。利用光刻膠等材料作為掩蔽層，通過物理、化學(xué)方法將下層材料中沒有被上層遮蔽層材料遮蔽的地方去掉，從而在下層材料上獲得與掩膜板圖形對(duì)應(yīng)的圖形。分為濕法刻蝕和干法刻蝕兩大類，被刻蝕的材料包括硅、介質(zhì)材料、金屬材料、光刻膠等。
智研觀點(diǎn)
2022-12-06
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